京东方A申请显示基板及其制备方法、显示装置专利,提供一种显示基板及其制备方法、显示装置

金融界2024年3月1日消息,据国家知识产权局公告,京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“一种显示基板及其制备方法、显示装置“,公开号CN117637755A,申请日期为2022年8月。

专利摘要显示,本公开实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置。显示基板包括衬底基板、位于衬底基板一侧的第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管,第一薄膜晶体管的第一有源层的材质包括多晶硅半导体,第二薄膜晶体管的第二有源层的材质包括氧化物半导体,层间绝缘层位于第一有源层和第二有源层的背离衬底基板的一侧,源漏金属层位于层间绝缘层的背离衬底基板的一侧,层间绝缘层至少在所述源漏金属层图案位置包括依次叠层设置的第一子绝缘层、第二子绝缘层、第三子绝缘层和第四子绝缘层,第三子绝缘层的材质包括氧化硅,第四子绝缘层的材质包括氮化硅,第四子绝缘层靠近源漏金属层。

本文源自金融界

发布于 2025-08-06
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